Растровая пленка
Растровая пленка нужна для подготовки клише тампопечати. В случае если фотоформа не растрирована на этапе фотовывода, необходимо произвести дополнительную засветку через растр с линиатурой от 150 до 300 lpi (60-80 лин/см) с 90% заполнением. Именно это экспонирование будет определять глубину печатного элемента.